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UV光催化氧化設(shè)備因其本身較好的凈化效率,已成為很多廠家處理廢氣的選擇,受到很多用戶的喜愛,關(guān)于設(shè)備的清洗工作,是設(shè)備保養(yǎng)中重要的一部分,下面是對UV光催化氧化設(shè)備清洗方法的介紹。
1、UV光催化氧化設(shè)備在清洗的時候,使用一般的清洗劑就可以,盡量將溫度控制在45攝氏度左右,使用清洗劑沖洗干凈后,然后用清水進行沖刷,等設(shè)備干燥后邊防正常使用。
2、設(shè)備的清洗周期,一般情況下是在一個季度左右,設(shè)備清洗的越頻繁,凈化效率則會越高,如設(shè)備長時間的不進行清洗,會造成設(shè)備的凈化效率降低,還會使設(shè)備存在很多其它危險。
3、UV光催化氧化設(shè)備清洗的主要流程是切斷電源,如在不切斷電源的情況下對設(shè)備進行清洗,會存在很大的危險。另外廠家在每款設(shè)備出廠之前,都會附帶一些使用說明及維護說明,只要按照上面的介紹進行可以了。
在uv光催化氧化設(shè)備的日常使用過程中,對設(shè)備進行正確的清洗工作,能使設(shè)備本身發(fā)揮出大的使用效率,還會延長設(shè)備的使用時間。